Bestimmung kleinster Verunreinigungen im Hexachlordisilan (HCDS)

Ausgangssituation und Projektziel

Die PSC Polysilane Chemistry GmbH stellt ein ganzes Portfolio an Verfahren zur Synthese, Trennung und Reinigung von leistungsfähigen Materialien für die Hochtechnologieanwendungen her. Um den Produktionsprozess des Hexachlordisilans (HCDS) stetig überwachen zu können und die erhaltene Reinheit der Produkte mittels eines Analysenzertifikats belegen zu können, wird eine Methode benötigt, mit Hilfe derer sich die Spurenelementgehalte im Produkt quantifizieren lassen.

© Fraunhofer CSP

Lösung und Kundennutzen

Am Fraunhofer CSP wurde eine Methode für den chemischen Aufschluss von Hexachlordisilan entwickelt, mit welcher Spurenelementgehalte bis in den ppt-Bereich analysiert werden können. Die PSC GmbH kann nun jedem verkauften Batch HCDS ein entsprechendes Analysenzertifikat beifügen, welches auf unseren Analysen beruht und dem Kunden transparent zeigt, welche Verunreinigungen in welcher Höhe im Material enthalten sind.

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Stefanie Wahl

Contact Press / Media

Stefanie Wahl

Teamleiterin »Spurenanalytik« | Gruppe »Materialanalytik«

Fraunhofer-Center für Silizium-Photovoltaik CSP
Otto-Eißfeldt-Straße 12
06120 Halle (Saale)

Telefon +49 345 5589-5122