EPINEX

© Fraunhofer CSP

Vorhaben

Hochqualitative epitaktische Siliziumwafer der nächsten Generation

Laufzeit

03.12.2020  - 30.04.2022

Projektziele

Die Firma NexWafe hat ein innovatives Verfahren zur Herstellung von Siliziumwafern für die Solarzellenfertigung entwickelt. Hierfür benötigt NexWafe Saatwafer, aus denen EpiWafer hergestellt werden.

Im Rahmen des Projektes sollen die Grundlagen bereitgestellt werden, um eine neue Generation von Saatwafern für die industrielle Produktion an dem NexWafe-Standort in Bitterfeld zu entwickeln. Den aktuellen Marktentwicklungen Rechnung tragend, soll in einem Schritt sowohl die Wafergröße erhöht, der beste Formfaktor evaluiert, sowie die elektronischen Eigenschaften optimiert werden.

Das Fraunhofer CSP stellt neue optimierte Si-Saatwafer für den EpiWafer-Prozess her. NexWafe prüft die hergestellten Saatwafer und prozessiert Stichproben auf den Anlagen der Pilotlinie mit dem Ziel die Auswirkung auf die EpiWafer-Fertigung zu analysieren.

Insgesamt soll durch dieses F&E-Projekt die Wettbewerbssituation der beteiligten Partner durch eine Stärkung ihrer Entwicklungs- und Forschungsleistung deutlich verbessert und die Perspektive einer nachhaltigen Kooperation geschaffen werden

 

Projektleitung

Dr. Roland Kunert -  roland.kunert@csp.fraunhofer.de